marx engineering halbleitertechnik
EUV-Lithografie, die Technologie der Zukunft


Die EUV (extreme ultra violet) Lithographie ist ein Fotolithographie-Verfahren, das Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 nm nutzt (EUV Licht).
Durch diese geringe Wellenlänge ist es möglich, die Strukturverkleinerung in der Halbleiterindustrie einen entscheidenden Schritt weiterzubringen und somit noch kleinere und effizientere Schaltkreise abzubilden.

Im Laufe des letzten Jahrzehntes haben wir tatkräftig, in Zusammenarbeit mit unserem Kunden, EUV Quellen neu- und weiterentwickelt.
Unsere Schwerpunkte liegen dabei bei den Prozessen im Umfeld der Lichtquelle, wie Vakuum, Kühlung, Heizung, Gasversorgung und Steuerung der Hochspannung. Hierbei sind die Hauptaufgaben insbesondere die Erstellung der System-Architektur, der E-Konstruktion, der Anlagen-Steuerung und die Optimierung der Prozesse.

Aufgrund von jahrelanger Erfahrung zählen Technologien wie Reinraum-, Vakuum-, oder Lasertechnik daher zu unseren Stärken.

 

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